利用脉冲激光沉积法(PLD)在Si 衬底上制备NiO 薄膜，利用X 射线衍射（XRD）和原子力显微镜（AFM）对所制备薄膜的晶体结构和表面形貌进行表征分析，研究衬底温度和脉冲激光能量对NiO 薄膜结构和形貌的影响，得到生长质量较高、择优取向的多晶NiO 薄膜的一种最佳制备条件。制备了p- NiO/n- Si异质结器件，I- V 特性测试表明，器件具有良好的整流特性