采用电解液成分逐渐加入法，在6种电解液中对ZAlSi12Cu2Mg1试样进行微弧氧化处 理，研究电解液组成对微弧氧化陶瓷膜形成的影响，寻找合适的电解液组成。结果表明：电解液组成对陶瓷膜层的厚度、粗糙度、硬度、耐磨性、膜层微观形貌及相 组成的影响很大，通过调节电解液成分，可获得性能优良的陶瓷膜。适宜的电解液组成 为：8g／LNaSiO3，1g／LNaOH，2g／LNa2WO4，0．5g／LNa2EDTA及10mL／L丙三醇。在此种电解液组成下，获得的陶瓷 膜厚156μm，面粗糙度为259nm，显微硬度达HV891。在干摩擦条件下，经30min磨损后，其磨损仅为基体的13．29％。观察膜层微观形貌， 膜层均匀致密。XRD分析表明：氧化层中含有Al、莫来石、SiO2、d．Al2O3、y-Al2O3和WO3相。