本文采用射频磁控溅射法在不同 氧氩比下制备氧化铪涂层。研究了涂层的沉积速率、表面形貌、微观结构和电绝缘特性随氧氩比的变化。结果表明用此方法在低活化马氏体钢上制备的氧化铪涂层表 面致密、无明显孔洞;低活化马氏体钢为衬底时涂层较易结晶为以单斜相为主的晶体结构;且涂层的绝缘特性受氧氩比影响较大,氧氩比为0.7和1.2下制备的 涂层击穿场强小于1MV/cm,电绝缘特性较差,在较低氧氩比下制备的涂层有较理想的绝缘性能