利用氧离子辅助电子束蒸发沉积Ta₂O₅薄膜，在固定氧离子能量的条件下研究了氧离子束流密度对Ta₂O₅薄膜的微观结构、化学计量比和漏电流密度的影响。利用原子力显微镜和X 射线衍射仪对Ta₂O₅薄膜微观结构进行表征研究，发现随着离子束流密度增大，沉积的Ta₂O₅薄膜致密性提高，粗糙度下降，但薄膜一直保持非晶态；同时能谱仪测试的结果表明，薄膜中O/Ta 比例逐渐提高，直至呈现富氧状态。测量了不同薄膜样品的漏电流密度和击穿场强，发现随着离子束流密度增大，薄膜漏电流密度显著降低，击穿场强提高