采 用 XRD, SEM, AFM 等 详细 研 究 了朱化 及 氮 离子注入对 坑膜 的 表 面 形 貌 和 相 结 构 的 影 响. 结 果 表 明, 在 单晶硅及抛光 Mo 基片上制备的坑膜均具有 (002) 晶面择优取向; 坑膜朱化后表面会出现大量孔洞, 朱化后朱化 坑 (ScD2 ) 晶粒长大, 但内部会残留少量未完全朱化反应的晶粒尺寸较小的 ScD0.33 /Sc 晶粒; 氮离子注入对坑及朱化 坑的表面形貌没有明显影响, 离子注入的氮将在坑及朱化坑晶格中聚集成泡, 导致氮离子注入层中的坑及朱化坑衍 射峰向低角度偏移, 并且氮泡的聚集具有择优取向性.