本文采用离子源辅助电子束蒸发的方法,制备了以Si为基底,以TiO2为缓冲层的ZnO薄膜。通过进一步保温处理,并分别在不同温度条件下进行退火处理得到了不同的样品薄膜用于表面形貌分析和光散射特性实验研究,结果表明:退火温度对样品表面粗糙度、晶粒大小、分形维数等参数具有显著的影响,通过表面形貌分析有助于对薄膜晶粒生长机制的理解和薄膜制备工艺的改进;不同薄膜样品的反射光强度和偏振度对不同偏振光具有不同的角度响应特征,且与薄膜表面统计特性具有一定的关联性,通过薄膜的光散射特性研究对计算薄膜样品的等效折射率和研究弱散射随机粗糙表面的退偏作用具有重要参考价值。