采用了一种新型工艺制备ZnO薄膜。新工艺采用二步法，首先在N型Si（100）衬底上用离子束沉积溅射一层金属Zn膜，然后通过热氧化金属Zn膜制备ZnO薄膜。通过X射线衍射、原子力显微镜对不同制备工艺下的ZnO薄膜进行结构与形貌的分析比较。研究表明，Zn膜的离子束溅射沉积时间、热氧化时间和辅助枪的离子束对热氧化后的ZnO薄膜再轰击处理对ZnO薄膜的结构与形貌都会产生影响。