采用射频等离子体技术，以CH4和H2为反应气体，在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜．采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度．结果表明，制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑，表面粗糙度极低，平均粗糙度Ra为0．492nm；薄膜中含有sp^2，sp^3杂化键，具有典型的类金刚石结构特征；光学透过率比较高，薄膜的复合硬度可以高达507．3kgf／cm^2．