采用粉末靶射频磁控溅射方法制备非晶Al2O3薄膜, 分析了溅射工艺参数对Al2O3薄膜微观结构、表面形貌、光学性能的影响规律及机理, 并探究其抗菌特性. 研究结果表明: 增加氧通量、降低溅射功率和缩短溅射时间均会减小非晶Al2O3薄膜颗粒度与粗糙度, 同时也降低薄膜的沉积速率; 并且, 氧通量的增加和溅射时间的缩短均会使非晶Al2O3薄膜禁带宽度变宽(最大值可达4.21 eV)、透光率增大(超过90%); 光照条件下非晶Al2O3薄膜24 h 抗菌率最高可达98.6%, 体现出了较好的光催化抗菌性.