使用磁控溅射制备Ag和SiO2相间的多层膜，系统研究了退火对复合薄膜形貌和光学特性的影 响。实验发现退火时间越长，Ag颗粒直径越大，吸收谱峰位相对较短的退火时间有红移现象，并且吸收谱峰比较宽，比较强。在退火时间足够长的情况下，随着每 层SiO2厚度的减小，Ag颗粒直径也减小，吸收峰强度变小，峰宽变窄，峰位有蓝移现象。我们做了大量实验，总结出了退火时间的计算公式。薄膜经过合适的 退火时间，放置20d后发现出现小平面结构，Ag颗粒分裂，吸收谱峰宽变窄，吸收峰位蓝移。不同退火温度下的吸收谱表明500℃是一个比较理想的退火温 度。