运用射频磁控溅射在非织造布基材上生长ZnO纳米结构薄膜.用原 子力显微镜(AFM)分析了射频磁控溅射工艺参数(功率、压力、时间)对ZnO透明薄膜微结构的影响,并用分光光度计分析了样品的透光率.结果表明:随着 沉积时间的延长,非织造布表面ZnO纳米结构薄膜的致密性、均匀性越来越好;较高的溅射功率加速了晶粒生长,但不易太大;过大的工作气压使ZnO颗粒形状 逐渐变差;经ZnO镀层处理的非织造布对紫外光的吸收能力随着镀膜厚度的增加逐渐增强.