提出了一种利用硫酸/过氧化氢溶液氧化清洗硅基的方法.硅片经超声预清洗后,放入硫酸/过氧化氢溶液中,80℃下氧化清洗其表面的污染物.通过接触角检测,表征了清洗前后硅基表面的亲水性变化.通过原子力显微镜(AFM)表征了经硫酸/过氧化氢溶液清洗后硅基的表面形貌.结果显示,经硫酸/过氧化氢溶液亲水化清洗30 min后的硅基表面的接触角为7.3°,显示出很强的亲水性,其表面均方根粗糙度(RMS)仅为0.03 nm.因此,硫酸/过氧化氢氧化清洗法是一种硅基表面无形貌改变的亲水化清洗方法.