采用射频磁控溅射技术，室温下在玻璃衬底上制备了Ａｌ、Ｓｎ共掺杂ＺｎＯ导电薄膜（ＺＡＴＯ），利用Ｘ射线衍射仪（ＸＲＤ）、原子力显微镜（ＡＦＭ）、紫外－可见光分光光度计、四探针测试仪表征了薄膜的结构与光电性能。实验结果表明，ＺＡＴＯ薄膜具有（００２）择优取向，当溅射功率为１２０Ｗ 时，ＺＡＴＯ薄膜在可见光范围的平均透过率大于８８％，电阻率为７．４６×１０－３Ω·ｃｍ。