利用脉冲激光沉积法在ITO 玻璃衬底上制备了NiO薄膜,利用XRD、AFM 对样品的晶体结构和表面形貌进行了表征,并对其透射光谱进行了测试,研究了衬底温度及脉冲激光能量对所制NiO 薄膜的结构、形貌和光学特性的影响。结果表明:在脉冲激光能量为180 mJ、衬底温度为600~700 ℃条件下所制备的样品为沿(111)晶面择优取向生长的多晶NiO 薄膜,薄膜结晶质量良好,表面颗粒排列均匀,可见光透射率较高,禁带宽度为3.40~3.47 eV。
 

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作者

李琳;董燕;余亮;文亚南;梁齐

期刊

电子元件与材料

年份