当前的化学机械抛光(CMP) 磨损模型中大多数都缺少微观试验数据的支持。为进步揭示CMP中纳米磨粒对材料表面的磨损机制,提出了采用原子力显微镜(AFM)来模拟CMP中的单个...
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作者
王春,安伟,赵永武
期刊
润滑与密封
年份
当前的化学机械抛光(CMP) 磨损模型中大多数都缺少微观试验数据的支持。为进步揭示CMP中纳米磨粒对材料表面的磨损机制,提出了采用原子力显微镜(AFM)来模拟CMP中的单个...
王春,安伟,赵永武
润滑与密封