采用射频磁控溅射技术，室温下在PET 柔性衬底上沉积不同厚度的掺锡氧化铟( ITO) 薄膜，样品的结构、形貌和光电学性质分别用X 射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计和Van der Pauw 方法测量． 实验结果表明: 在其它参数不变的条件下，随着溅射时间的增加薄膜的厚度增大，而薄膜的颗粒大小和表面粗糙度也随之变大; 方块电阻、电阻率随样品厚度的增加而减小，相应的迁移率减少，载流子浓度变大． 当样品厚度为148 nm 时，样品的方块电阻为26. 5 Ω·□－ 1、迁移率为19. 1 cm2·V － 1·s － 1、载流子浓度为8. 43 × 1020 cm－ 3 ．