采用电子束蒸发法，以高纯CdS块料为膜料在玻璃基底上制备了CdS薄膜。利用X射线衍射仪和原子力显微镜表征其晶体结构和表面形貌，用四探针电阻测试仪和紫外可见分光光度计分析其电学及光学特性。结果表明，蒸发速率对薄膜结构及特性有显著影响，其中在蒸发速率为10?S-1制备的CdS薄膜均匀致密且其XRD衍射峰强度最大，薄膜的光电性能最好。这些CdS薄膜的光敏性达到7.7×102，其中亮电阻的最小值为1350Ω/□。